Двоетапна відлущуюча гелева маска з центеллою та PHA кислотою celimax Ji Woo Gae Cica PHA Peel 2-Step Gel Mask

Комплексний двоетапний засіб розроблений для безпечного відлущування та глибокого заспокоєння шкіри. Формат процедури передбачає використання пілінг-диска (Крок 1) для делікатного розчинення ороговілих клітин, після чого наноситься охолоджувальна гелева маска (Крок 2) для швидкого відновлення гідробалансу та зняття подразнень.

Проведення такого догляду допомагає вирівняти мікрорельєф, зменшити прояви почервонінь та покращити загальну текстуру епідермісу. Завдяки збалансованій формулі з високою концентрацією PHA-кислоти, комплексом похідних центелли та керамідами, продукт забезпечує м'яке оновлення без відчуття стягнутості чи дискомфорту після використання.

Активні компоненти

• PHA-кислота (10%) та екстракт кори верби - м'яко відлущують відмерлі клітини, очищують пори та поступово вирівнюють текстуру без агресивного впливу на епідерміс;
• комплекс центелли азіатської (екстракт, пудра, азіатикозид, мадекассосід) - ефективно заспокоює шкіру, знімає почервоніння та прискорює процеси природної регенерації;
• мультимолекулярна гіалуронова кислота - працює на різних рівнях епідермісу, гарантує глибоке зволоження та запобігає втраті вологи одразу після етапу пілінгу;
• кераміди та бета-глюкан - допомагають відновити захисну ліпідну мантію, зменшують чутливість та підвищують місцевий імунітет шкіри;
• ніацинамід та аденозин - сприяють вирівнюванню загального тону, м'яко освітлюють та підтримують природну пружність тканин;
• олія чайного дерева - забезпечує базову антибактеріальну дію та допомагає запобігти появі локальних висипань.

Переваги

• Гармонійне поєднання делікатного пілінгу та інтенсивного заспокійливого догляду;
• М'яке оновлення клітин та відчутне покращення мікрорельєфу;
• Швидке зменшення почервонінь та дискомфорту;
• Глибоке багаторівневе зволоження та відновлення бар'єрних функцій;
• Безпечне використання навіть для чутливої шкіри завдяки м'якій дії PHA-кислоти.